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      YHAO體檢中心污水處理設備的選擇及維護技巧

      2018-05-01 瀏覽次數:2070

      能應用在體檢中心的污水處理設備有很多種,經過我們多次的回訪與調查,真正能得到體檢機構認可滿意的污水處理設備有一下兩種
      一、二氧化氯發生器。反應系統采用耐高溫、耐腐蝕的新材料;采用化學法負壓曝氣工藝,結構合理、可靠性強、使用壽命長;電腦控制加熱、帶缺水缺科欠壓聲光報警;以氯酸鈉和鹽酸為原料,產出的混合氣體中二氧化氯濃度占80%以上;微過濾技術讓水射器堵塞,*避免了氣體泄露:體積小、重量輕、操作簡單、維修方便;運行費用低、滅菌效果好。
      二氧化氯是一種、廣譜、安全、快速、多功能、持續時間長、貯存與使用方便的殺菌消毒劑,美國環境保護署(EPA)和美國食品藥物管理局(FDA)批準它可以用于醫院、食品加工等部門。
      國內外生產的商品性二氧化氯產品主要是穩定性二氧化氯溶液,也有少部分的緩釋型團體狀、膠狀顆粒、微膠囊化粉體等固體二氧化氯產品。近年來國內污水處理行業十分流行二氧化氯法,在醫院污水處理上有著良好的效果。化學法二氧化氯消毒用于處理醫院污水的優點:
      ①ClO2可以殺滅一切微生物,包括細菌繁殖體、細胞芽孢、真菌、分枝桿菌和病毒等。它能有效地破壞水中的微量有機污染物及有機硫化物等。能很好地氧化水中一些還原狀態的金屬離子如Fe2+、Mn2+、Ni2+等。受pH影響小,對藻類有殺滅作用,還能降低水溶液的色度、濁度和異味,其效果是次氯酸鈉的5倍。在污水處理中不形成顯著的有機鹵化物,是醫院污水處理的理想選擇。
      ②二氧化氯對病毒消毒效果比臭氧更有效,與污水反應快,接解時間是氯的1/2-1/4,可由1h縮短至0.5h,接觸池可縮小到原來的一半,大大節省了投資。
      目前國內市場上二氧化氯產品主要有穩定性二氧化氯水溶液及現場制備二氧化氯水溶液的發生器。穩定性二氧化氯水溶液因為使用不方便、成本高很少用于工業領域。二氧化氯發生器分為化學法和電解法兩大類,電解法二氧化氯發生器由于其耗電大、規模小、二氧化氯含量低、故障率高等缺陷,目前在市場上已逐漸被淘汰。化學法二氧化氯發生器按其主要原料氧化劑不同,主要分為以下兩大類:即氯酸鈉法二氧化氯發生器和亞氯酸鈉法二氧化氯發生器。按其產物中二氧化氯
      純度不同可分為復合二氧化氯發生器和純二氧化氯發生器。 因氯酸鈉法二氧化氯發生器制備二氧化氯成本較低,廣泛用于紙漿漂白和工業水處理領域,亞氯酸鈉法二氧化氯發生器制備二氧化氯成本約是前者的3~4倍,一般用于小規模水處理或有特殊要求的場所。 工業水處理領域常用的二氧化氯發生器主要有以下兩種工藝:
      (1)復合二氧化氯發生器 以氯酸鈉和鹽酸或氯酸鈉和硫酸、氯化鈉為原料。 2NaClO3+4HCl=2ClO2+Cl2+2NaCl+2H2O 2NaClO3+2H2SO4+2NaCl
      =2ClO2+Cl2+2Na2SO4+2H2O 
      (2)純二氧化氯發生器 以亞氯酸鈉和鹽酸或亞氯酸鈉和Cl2為原料。 5NaClO2+4HCl=4ClO2+5NaCl+2H2O 2NaClO2+Cl2=2ClO2+2NaCl 
      化學法二氧化氯消毒劑發生器分為兩類,一類為純二氧化氯消毒劑發生器,另一類為二氧化氯復合消毒劑發生器。顧名思義,純二氧化氯消毒劑發生器生成物的為二氧化氯,而二氧化氯復合消毒劑發生器生成二氧化氯和Cl2等混合溶液。
      二、臭氧發生器。占地面積小、安裝方便;自動運行、操作簡單、整個系統無需專人管理;系統處理效果穩定可靠;外表美觀、結構緊湊、便于移動;無需投加藥劑,節省后續運行成本;臭氧消毒,滅菌率達99%,消毒*。
      臭氧是一種強氧化劑,氧化能力高于氯和二氧化氯,能破壞分解細菌的細胞壁,很快地擴散透進細胞內,氧化分解細菌內部氧化葡萄糖所必須的葡萄糖氧化酶等,也可以直接與細菌、病毒發生作用,破壞細胞、核糖核酸(RNA),分解脫氧核糖核酸(DNA)、RNA、蛋白質、脂質類和多糖等大分子聚合物,使細菌的代謝和繁殖過程遭到破壞。細菌被臭氧殺死是由細胞膜的斷裂所致,這一過程被稱為細胞消散,是由于細胞質在水中被粉碎引起的,在消散的條件下細胞不可能再生。但是,與次氯酸類消毒劑不同,臭氧的殺菌能力不受PH值變化和氨的影響,其殺菌能力比氯大600-3000倍,它的滅菌、消毒作用幾乎是瞬時發生。臭氧消毒,其殺菌機理是破壞和氧化微生物的酶系統和核酸,從而使細菌和病毒迅速滅活。臭氧以空氣為原料,對某部門污水中含有的病源性微生物,細菌,病毒等殺滅率在99%以上。整套設備在標準狀態下連續使用壽命8萬小時。
      設備的維護 
      臭氧發生器:設備清洗:設備長時間運行后,反應器中沉淀物會增加,影響設備產率或原料轉化率,應定期進行清洗。
      設備一般在運行中無需清洗。設備整機沖洗:一般半年整機清洗一次。設備主機背側有排污閥,可進行清洗排污。清洗時,打開安全閥,往里注入清水進行清洗,當出氣口有液體流出時,關閉出氣口,當進氣口有液體流出時關閉進氣口,直至加滿水,浸泡 5 分鐘,打開排污閥,將殘液排凈,反復幾次,直至清洗干凈為止。
      加熱水套清洗關閉加熱系統,并關閉電源,打開水套排污閥,將水套水排出,然后關閉排污閥,從加水口加滿清水,再排出,反復幾次,直至清洗干凈為止。如果水的硬度太高,除了加大清洗頻率外,必要情況下請做除垢處理。
      2.過濾器的清理。標準原料罐出口閥門中帶有過濾網,應定期進行清洗。清洗時,先關閉閥門,然后將球閥外接頭卸下,清理其中過濾網上的雜質,并用清水或溫水清洗干凈,重新連接。外配過濾器請按照說明書定期清洗。
      傳感器的安裝.注意:不得觸摸膜帽或電,易損壞!
      安裝傳感器入在線護套之前,關閉護套前端的截上閥,此時系統處于無壓狀態。
      膜帽內電解液的填充方法
      傳感器帶有一個具有保護作用的膜帽,取下膜帽保護套,可以扭下膜帽,要仔細沖洗膜帽和放電解液的電座,不能觸摸或操作膜帽和電。填充電解液時,可以沿著膜帽內側注入,以免產生氣泡。當膜帽內充有氣泡時,小心用力輕敲膜帽來除掉它。填滿電解液的膜帽可放置在傳感軸上,傳感器軸必須垂直向下,然后斜握傳感器,轉動電軸上有玻璃部分上的孔端,用手控緊膜帽,空氣和過剩的電解會通過小孔溢出。完成后電解液腔內不得存有所泡,如有可重新填充。
      二氧化氯發生器:設備主機下部有排污口,可進行清洗排污,清洗時在水射器正常工作狀態下,打開反應室放空閥,關閉反應室空氣進口閥,打開反應室反沖洗閥,約半小時即可,然后關閉反應室放空閥,關閉反應室反沖洗閥,打開反應室空氣進口閥,關閉原水進水閥。正常情況下,應該每月清洗一次。
      注意事項
      氯酸鈉和鹽酸應分開單獨存放。
      氯酸鈉應放在干燥、通風、避光處,嚴禁與易燃物品混放,嚴禁擠壓、碰撞,氯酸鈉應符合GB1618-1995工業用氯酸鈉的要求。
      鹽酸濃度為30%左右,應符合G320-93工業合成鹽酸的要求,嚴禁使用廢酸。
      應注意經常清洗原料罐下部的沉淀物,防止堵塞計量泵。

       

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